mark_mene
03-09-2007, 21:06
Hallo zusammen,
fand im Forum eine klasse Tabelle, leider finde ich das Thema hier nicht mehr hier! :-(
mein Package:
\usepackage{ltxtable}
%\RequirePackage{tabularx,longtable} tabularx für Zeilenumbruch in der Tabelle und longtable Tabellen auf zwei Seiten
Da die Tabelle (siehe unten) über zwei oder mehrer Seiten geht hab ich
\begin{tabularx}{\textwidth}{|l|l|*{4}{C|}}
\begin{tabularx}
mit
\begin{longtable}{p{3cm} p{3cm} p{12cm}}
\end{longtable}
getauscht!
Und die Befehle:
\begin{table}[!ht]
\end{table}
entfernt, caption in die tabularx-Schleife rein!
Leider ist aber die Tabelle jetzt zu breit!
Und wollte daher den Befehl
{\textwidth}{|l|l|*{4}{C|}}
von tabularex in longtable einfüge.
Leider bring ich das nicht zusammen, auch eine andere möglichkeit nicht!
Wollte die Grosse Spalte eben gern dynamisch halten damit sich die die vorderen Spalten anpassen könne und sich die letzte eben anpasst!
Leider ist auch der Caption nur über eine bestimmt Breite und nicht über die gesamte Seite oder würdet ihr bei Tabellen im Anhang kein caption verwenden???
Die Docu versteh ich nicht, wo ich finde! auch die bei CAN usw :-(
Kann mir evtl. von euch jmd. weiterhelfen!
Danke!!!!
\chapter{Program für ICECREM Simulation}
\newcolumntype{C}{>{\arraybackslash}X}
\begin{table}[!ht]
\begin{tabularx}{\textwidth}{|l|l|*{4}{C|}}
\hline
1 & TITLE & TITLE=``LDMOS Substrat + LOCO'' \\
\hline
2 & SUBSTR & ORNT=100 ELEM=Boron RESIST=0.011ohm.cm WAFTHI=725um \\
\hline
3 & GRID & DXSI=0.01um XMAX=12um \\
\hline
4 & EPITAXY & ELEM=Boron TEMP=1050oC TIME=50min GROWTHR=0.2um/min[S] \\
\hline
5 & & DOTPRES=3.1e-011bar HICONC=1e+013cm\^-3[S] \\
\hline
6 & PARAMS & XLEN=14cm NDEC=4 YLEN=16cm REPMAX=1e+016cm\^-3 \\
\hline
7 & & TEXT1=``Substrat mit EPI-Schicht'' \\
\hline
8 & & TEXT2=``LOCOS + I2 IMPL SINKER (X), Oxidation GOX 22,5nm'' \\
\hline
9 & & TEXT3=``STI + I2 IMPL SINKER (X), Oxidation GOX 22,5nm'' \\
\hline
10 & & TEXT4=``'' \\
\hline
11 & COMMENT & COMMENT=20nm-LOCOX \\
\hline
12 & OXIDIZE & TEMP=750oC TIME=5min MODE=``Dry oxidation'' PRES=0.05bar \\
\hline
13 & & TSINFO=FALSE \\
\hline
14 & OXIDIZE & TEMP=750oC TIME=30min TRTE=5oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
15 & & PRES=0.05bar \\
\hline
16 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=5min MODE=``Dry oxidation'' PRES=0.05bar \\
\hline
17 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=5min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
18 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=37min MODE=``Dry oxidation'' HCL=5\% \\
\hline
19 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=5min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
20 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=1min \\
\hline
21 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=50min TRTE=-3oC/min \\
\hline
22 & COMMENT & COMMENT=``FOX H60319'' \\
\hline
23 & OXIDIZE & TEMP=800oC TIME=40min TRTE=5oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
24 & OXIDIZE & TEMP=1000oC TIME=15min MODE=``Wet oxidation'' PRES=0.75bar \\
\hline
25 & OXIDIZE & TEMP=1000oC TIME=172min MODE=``Wet oxidation'' PRES=0.75bar \\
\hline
26 & OXIDIZE & TEMP=1000oC TIME=67min TRTE=-3oC/min \\
\hline
27 & OXIDIZE & TEMP=799oC TIME=5min \\
\hline
28 & ETCH & OXTHI=0um \\
\hline
29 & COMMENT & COMMENT=AOX/DRVIN \\
\hline
30 & OXIDIZE & TEMP=850oC TIME=10min TRTE=5oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
31 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=15min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
32 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=1min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
33 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=5min MODE=``Wet oxidation'' PRES=0.75bar \\
\hline
34 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=45min MODE=``Wet oxidation'' PRES=0.75bar \\
\hline
35 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=50min TRTE=5oC/min \\
\hline
36 & OXIDIZE & TEMP=1150oC TIME=60min \\
\hline
37 & OXIDIZE & TEMP=1150oC TIME=150min TRTE=-2oC/min \\
\hline
38 & ETCH & OXTHI=0um \\
\hline
39 & COMMENT & COMMENT=========================================== ===== \\
\hline
40 & COMMENT & COMMENT=``I2 IMPL SINKER (X)'' \\
\hline
41 & IMPLANT & ELEM=Boron ENERGY=70keV DOSE=1e+016cm\^-2 \\
\hline
42 & COMMENT & COMMENT=``DRIVE IN p-Sinker'' \\
\hline
43 & OXIDIZE & TEMP=700oC TIME=10min \\
\hline
44 & OXIDIZE & TEMP=700oC TIME=12.5min TRTE=12oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
45 & & PRES=0.02bar \\
\hline
46 & OXIDIZE & TEMP=850oC TIME=18.75min TRTE=8oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
47 & & PRES=0.02bar \\
\hline
48 & OXIDIZE & TEMP=1000oC TIME=10min TRTE=5oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
49 & & PRES=0.02bar \\
\hline
50 & OXIDIZE & TEMP=1050oC TIME=12.5min TRTE=4oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
51 & & PRES=0.02bar \\
\hline
52 & OXIDIZE & TEMP=1100oC TIME=25min TRTE=2oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
53 & & PRES=0.02bar \\
\hline
54 & OXIDIZE & TEMP=1150oC TIME=50min TRTE=1oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
55 & & PRES=0.02bar \\
\hline
56 & OXIDIZE & TEMP=1200oC TIME=10min \\
\hline
57 & OXIDIZE & TEMP=1200oC TIME=0.2min \\
\hline
58 & OXIDIZE & TEMP=1200oC TIME=65min \\
\hline
59 & OXIDIZE & TEMP=1200oC TIME=50min TRTE=-2oC/min \\
\hline
60 & OXIDIZE & TEMP=1100oC TIME=135min TRTE=-3oC/min \\
\hline
61 & ETCH & OXTHI=0um \\
\hline
62 & COMMENT & COMMENT=Gateoxid \\
\hline
63 & OXIDIZE & TEMP=750oC TIME=10min MODE=``Dry oxidation'' PRES=0.05bar \\
\hline
64 & OXIDIZE & TEMP=750oC TIME=30min TRTE=5oC/min MODE=´´Dry oxidation'' \\
\hline
65 & & PRES=0.05bar \\
\hline
66 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=5min MODE=``Dry oxidation'' PRES=0.05bar \\
\hline
67 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=5min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
68 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=64min MODE=``Dry oxidation'' HCL=1\% \\
\hline
69 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=5min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
70 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=15min \\
\hline
71 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=50min TRTE=-3oC/min \\
\hline
72 & PLOT & WHENLAST=TRUE \\
\hline
73 & COMMENT & COMMENT=========================================== ===== \\
\hline
74 & COMMENT & COMMENT=========================================== ===== \\
\hline
75 & COMMENT & COMMENT=========================================== ===== \\
\hline
76 & TITLE & TITLE=``LDMOS Substrat + STI`` \\
\hline
77 & SUBSTR & ORNT=100 ELEM=Boron RESIST=0.011ohm.cm WAFTHI=725um \\
\hline
78 & GRID & DXSI=0.01um XMAX=12um \\
\hline
79 & EPITAXY & ELEM=Boron TEMP=1050oC TIME=50min GROWTHR=0.2um/min[S] \\
\hline
80 & & DOTPRES=3.1e-011bar HICONC=1e+013cm\^-3[S] \\
\hline
81 & COMMENT & COMMENT=``AOX/DRVIN - Einstellung der Doteirstoffverteilung'' \\
\hline
82 & OXIDIZE & TEMP=850oC TIME=10min TRTE=5oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
83 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=15min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
84 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=1min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
85 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=5min MODE=``Wet oxidation'' PRES=0.75bar \\
\hline
86 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=45min MODE=``Wet oxidation'' PRES=0.75bar \\
\hline
87 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=50min TRTE=5oC/min \\
\hline
88 & OXIDIZE & TEMP=1150oC TIME=150min \\
\hline
89 & OXIDIZE & TEMP=1150oC TIME=150min TRTE=-2oC/min \\
\hline
90 & ETCH & OXTHI=0um \\
\hline
91 & COMMENT & COMMENT=``15nm pad-OXID'' \\
\hline
92 & OXIDIZE & TEMP=800oC TIME=20min TRTE=5oC/min MODE=``Dry oxidation'' HCL=5\% \\
\hline
93 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=20min MODE=``Dry oxidation'' HCL=5\% \\
\hline
94 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=15min \\
\hline
95 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=33min TRTE=-3oC/min \\
\hline
96 & ETCH & OXTHI=0um \\
\hline
97 & COMMENT & COMMENT=``STROX RTP - Kantenverrundung'' \\
\hline
98 & OXIDIZE & TEMP=600oC TIME=0.05min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
99 & OXIDIZE & TEMP=600oC TIME=5min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
100 & OXIDIZE & TEMP=750oC TIME=0.1min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
101 & OXIDIZE & TEMP=750oC TIME=0.13min TRTE=3078oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
102 & OXIDIZE & TEMP=1150.14oC TIME=1min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
103 & OXIDIZE & TEMP=1150.14oC TIME=0.16min TRTE=-2469oC/min \\
\hline
104 & COMMENT & COMMENT=``DRIVE IN RTP - TEOS Oxid verdichten'' \\
\hline
105 & OXIDIZE & TEMP=1100oC TIME=1min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
106 & OXIDIZE & TEMP=550oC TIME=0.135min \\
\hline
107 & OXIDIZE & TEMP=550oC TIME=0.0835min TRTE=3000oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
108 & & PRES=0.5bar \\
\hline
109 & OXIDIZE & TEMP=800.5oC TIME=0.334min MODE=``Dry oxidation'' PRES=0.5bar \\
\hline
110 & OXIDIZE & TEMP=800.5oC TIME=0.1min TRTE=3000oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
111 & & PRES=0.5bar \\
\hline
112 & OXIDIZE & TEMP=1100.5oC TIME=1min MODE=``Dry oxidation'' PRES=0.5bar \\
\hline
113 & OXIDIZE & TEMP=1100.5oC TIME=0.16min TRTE=-2400oC/min \\
\hline
114 & & MODE=``Dry oxidation'' PRES=0.5bar \\
\hline
115 & ETCH & OXTHI=0um \\
\hline
116 & COMMENT & COMMENT=========================================== ===== \\
\hline
117 & COMMENT & COMMENT=``I2 IMPL SINKER (X)'' \\
\hline
118 & IMPLANT & ELEM=Boron ENERGY=70keV DOSE=1e+016cm\^-2 \\
\hline
119 & COMMENT & COMMENT=``DRIVE IN p-Sinker'' \\
\hline
120 & OXIDIZE & TEMP=700oC TIME=10min \\
\hline
121 & OXIDIZE & TEMP=700oC TIME=12.5min TRTE=12oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
122 & & PRES=0.02bar \\
\hline
123 & OXIDIZE & TEMP=850oC TIME=18.75min TRTE=8oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
124 & & PRES=0.02bar \\
\hline
125 & OXIDIZE & TEMP=1000oC TIME=10min TRTE=5oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
126 & & PRES=0.02bar \\
\hline
127 & OXIDIZE & TEMP=1050oC TIME=12.5min TRTE=4oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
128 & & PRES=0.02bar \\
\hline
129 & OXIDIZE & TEMP=1100oC TIME=25min TRTE=2oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
130 & & PRES=0.02bar \\
\hline
131 & OXIDIZE & TEMP=1150oC TIME=50min TRTE=1oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
132 & & PRES=0.02bar \\
\hline
133 & OXIDIZE & TEMP=1200oC TIME=10min \\
\hline
134 & OXIDIZE & TEMP=1200oC TIME=0.2min \\
\hline
135 & OXIDIZE & TEMP=1200oC TIME=65min \\
\hline
136 & OXIDIZE & TEMP=1200oC TIME=50min TRTE=-2oC/min \\
\hline
137 & OXIDIZE & TEMP=1100oC TIME=135min TRTE=-3oC/min \\
\hline
138 & ETCH & OXTHI=0um \\
\hline
139 & COMMENT & COMMENT=Gateoxid \\
\hline
140 & OXIDIZE & TEMP=750oC TIME=10min MODE=``Dry oxidation'' PRES=0.05bar \\
\hline
141 & OXIDIZE & TEMP=750oC TIME=30min TRTE=5oC/min MODE=''Dry oxidation`` \\
\hline
142 & & PRES=0.05bar \\
\hline
143 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=5min MODE=``Dry oxidation'' PRES=0.05bar \\
\hline
144 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=5min MODE=``Dry oxidation`''\\
\hline
145 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=64min MODE=``Dry oxidation'' HCL=1\% \\
\hline
146 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=5min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
147 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=15min \\
\hline
148 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=50min TRTE=-3oC/min \\
\hline
149 & PLOT & WHENLAST=TRUE \\
\hline
\begin{tabularx}
\caption{Simulationsfile von ICECREM: Vergleich zwischen STI und LOCOS inklusiv p-Sinker} \label{Simulation}
\end{table}
fand im Forum eine klasse Tabelle, leider finde ich das Thema hier nicht mehr hier! :-(
mein Package:
\usepackage{ltxtable}
%\RequirePackage{tabularx,longtable} tabularx für Zeilenumbruch in der Tabelle und longtable Tabellen auf zwei Seiten
Da die Tabelle (siehe unten) über zwei oder mehrer Seiten geht hab ich
\begin{tabularx}{\textwidth}{|l|l|*{4}{C|}}
\begin{tabularx}
mit
\begin{longtable}{p{3cm} p{3cm} p{12cm}}
\end{longtable}
getauscht!
Und die Befehle:
\begin{table}[!ht]
\end{table}
entfernt, caption in die tabularx-Schleife rein!
Leider ist aber die Tabelle jetzt zu breit!
Und wollte daher den Befehl
{\textwidth}{|l|l|*{4}{C|}}
von tabularex in longtable einfüge.
Leider bring ich das nicht zusammen, auch eine andere möglichkeit nicht!
Wollte die Grosse Spalte eben gern dynamisch halten damit sich die die vorderen Spalten anpassen könne und sich die letzte eben anpasst!
Leider ist auch der Caption nur über eine bestimmt Breite und nicht über die gesamte Seite oder würdet ihr bei Tabellen im Anhang kein caption verwenden???
Die Docu versteh ich nicht, wo ich finde! auch die bei CAN usw :-(
Kann mir evtl. von euch jmd. weiterhelfen!
Danke!!!!
\chapter{Program für ICECREM Simulation}
\newcolumntype{C}{>{\arraybackslash}X}
\begin{table}[!ht]
\begin{tabularx}{\textwidth}{|l|l|*{4}{C|}}
\hline
1 & TITLE & TITLE=``LDMOS Substrat + LOCO'' \\
\hline
2 & SUBSTR & ORNT=100 ELEM=Boron RESIST=0.011ohm.cm WAFTHI=725um \\
\hline
3 & GRID & DXSI=0.01um XMAX=12um \\
\hline
4 & EPITAXY & ELEM=Boron TEMP=1050oC TIME=50min GROWTHR=0.2um/min[S] \\
\hline
5 & & DOTPRES=3.1e-011bar HICONC=1e+013cm\^-3[S] \\
\hline
6 & PARAMS & XLEN=14cm NDEC=4 YLEN=16cm REPMAX=1e+016cm\^-3 \\
\hline
7 & & TEXT1=``Substrat mit EPI-Schicht'' \\
\hline
8 & & TEXT2=``LOCOS + I2 IMPL SINKER (X), Oxidation GOX 22,5nm'' \\
\hline
9 & & TEXT3=``STI + I2 IMPL SINKER (X), Oxidation GOX 22,5nm'' \\
\hline
10 & & TEXT4=``'' \\
\hline
11 & COMMENT & COMMENT=20nm-LOCOX \\
\hline
12 & OXIDIZE & TEMP=750oC TIME=5min MODE=``Dry oxidation'' PRES=0.05bar \\
\hline
13 & & TSINFO=FALSE \\
\hline
14 & OXIDIZE & TEMP=750oC TIME=30min TRTE=5oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
15 & & PRES=0.05bar \\
\hline
16 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=5min MODE=``Dry oxidation'' PRES=0.05bar \\
\hline
17 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=5min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
18 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=37min MODE=``Dry oxidation'' HCL=5\% \\
\hline
19 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=5min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
20 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=1min \\
\hline
21 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=50min TRTE=-3oC/min \\
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22 & COMMENT & COMMENT=``FOX H60319'' \\
\hline
23 & OXIDIZE & TEMP=800oC TIME=40min TRTE=5oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
24 & OXIDIZE & TEMP=1000oC TIME=15min MODE=``Wet oxidation'' PRES=0.75bar \\
\hline
25 & OXIDIZE & TEMP=1000oC TIME=172min MODE=``Wet oxidation'' PRES=0.75bar \\
\hline
26 & OXIDIZE & TEMP=1000oC TIME=67min TRTE=-3oC/min \\
\hline
27 & OXIDIZE & TEMP=799oC TIME=5min \\
\hline
28 & ETCH & OXTHI=0um \\
\hline
29 & COMMENT & COMMENT=AOX/DRVIN \\
\hline
30 & OXIDIZE & TEMP=850oC TIME=10min TRTE=5oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
31 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=15min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
32 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=1min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
33 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=5min MODE=``Wet oxidation'' PRES=0.75bar \\
\hline
34 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=45min MODE=``Wet oxidation'' PRES=0.75bar \\
\hline
35 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=50min TRTE=5oC/min \\
\hline
36 & OXIDIZE & TEMP=1150oC TIME=60min \\
\hline
37 & OXIDIZE & TEMP=1150oC TIME=150min TRTE=-2oC/min \\
\hline
38 & ETCH & OXTHI=0um \\
\hline
39 & COMMENT & COMMENT=========================================== ===== \\
\hline
40 & COMMENT & COMMENT=``I2 IMPL SINKER (X)'' \\
\hline
41 & IMPLANT & ELEM=Boron ENERGY=70keV DOSE=1e+016cm\^-2 \\
\hline
42 & COMMENT & COMMENT=``DRIVE IN p-Sinker'' \\
\hline
43 & OXIDIZE & TEMP=700oC TIME=10min \\
\hline
44 & OXIDIZE & TEMP=700oC TIME=12.5min TRTE=12oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
45 & & PRES=0.02bar \\
\hline
46 & OXIDIZE & TEMP=850oC TIME=18.75min TRTE=8oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
47 & & PRES=0.02bar \\
\hline
48 & OXIDIZE & TEMP=1000oC TIME=10min TRTE=5oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
49 & & PRES=0.02bar \\
\hline
50 & OXIDIZE & TEMP=1050oC TIME=12.5min TRTE=4oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
51 & & PRES=0.02bar \\
\hline
52 & OXIDIZE & TEMP=1100oC TIME=25min TRTE=2oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
53 & & PRES=0.02bar \\
\hline
54 & OXIDIZE & TEMP=1150oC TIME=50min TRTE=1oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
55 & & PRES=0.02bar \\
\hline
56 & OXIDIZE & TEMP=1200oC TIME=10min \\
\hline
57 & OXIDIZE & TEMP=1200oC TIME=0.2min \\
\hline
58 & OXIDIZE & TEMP=1200oC TIME=65min \\
\hline
59 & OXIDIZE & TEMP=1200oC TIME=50min TRTE=-2oC/min \\
\hline
60 & OXIDIZE & TEMP=1100oC TIME=135min TRTE=-3oC/min \\
\hline
61 & ETCH & OXTHI=0um \\
\hline
62 & COMMENT & COMMENT=Gateoxid \\
\hline
63 & OXIDIZE & TEMP=750oC TIME=10min MODE=``Dry oxidation'' PRES=0.05bar \\
\hline
64 & OXIDIZE & TEMP=750oC TIME=30min TRTE=5oC/min MODE=´´Dry oxidation'' \\
\hline
65 & & PRES=0.05bar \\
\hline
66 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=5min MODE=``Dry oxidation'' PRES=0.05bar \\
\hline
67 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=5min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
68 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=64min MODE=``Dry oxidation'' HCL=1\% \\
\hline
69 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=5min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
70 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=15min \\
\hline
71 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=50min TRTE=-3oC/min \\
\hline
72 & PLOT & WHENLAST=TRUE \\
\hline
73 & COMMENT & COMMENT=========================================== ===== \\
\hline
74 & COMMENT & COMMENT=========================================== ===== \\
\hline
75 & COMMENT & COMMENT=========================================== ===== \\
\hline
76 & TITLE & TITLE=``LDMOS Substrat + STI`` \\
\hline
77 & SUBSTR & ORNT=100 ELEM=Boron RESIST=0.011ohm.cm WAFTHI=725um \\
\hline
78 & GRID & DXSI=0.01um XMAX=12um \\
\hline
79 & EPITAXY & ELEM=Boron TEMP=1050oC TIME=50min GROWTHR=0.2um/min[S] \\
\hline
80 & & DOTPRES=3.1e-011bar HICONC=1e+013cm\^-3[S] \\
\hline
81 & COMMENT & COMMENT=``AOX/DRVIN - Einstellung der Doteirstoffverteilung'' \\
\hline
82 & OXIDIZE & TEMP=850oC TIME=10min TRTE=5oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
83 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=15min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
84 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=1min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
85 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=5min MODE=``Wet oxidation'' PRES=0.75bar \\
\hline
86 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=45min MODE=``Wet oxidation'' PRES=0.75bar \\
\hline
87 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=50min TRTE=5oC/min \\
\hline
88 & OXIDIZE & TEMP=1150oC TIME=150min \\
\hline
89 & OXIDIZE & TEMP=1150oC TIME=150min TRTE=-2oC/min \\
\hline
90 & ETCH & OXTHI=0um \\
\hline
91 & COMMENT & COMMENT=``15nm pad-OXID'' \\
\hline
92 & OXIDIZE & TEMP=800oC TIME=20min TRTE=5oC/min MODE=``Dry oxidation'' HCL=5\% \\
\hline
93 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=20min MODE=``Dry oxidation'' HCL=5\% \\
\hline
94 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=15min \\
\hline
95 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=33min TRTE=-3oC/min \\
\hline
96 & ETCH & OXTHI=0um \\
\hline
97 & COMMENT & COMMENT=``STROX RTP - Kantenverrundung'' \\
\hline
98 & OXIDIZE & TEMP=600oC TIME=0.05min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
99 & OXIDIZE & TEMP=600oC TIME=5min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
100 & OXIDIZE & TEMP=750oC TIME=0.1min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
101 & OXIDIZE & TEMP=750oC TIME=0.13min TRTE=3078oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
102 & OXIDIZE & TEMP=1150.14oC TIME=1min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
103 & OXIDIZE & TEMP=1150.14oC TIME=0.16min TRTE=-2469oC/min \\
\hline
104 & COMMENT & COMMENT=``DRIVE IN RTP - TEOS Oxid verdichten'' \\
\hline
105 & OXIDIZE & TEMP=1100oC TIME=1min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
106 & OXIDIZE & TEMP=550oC TIME=0.135min \\
\hline
107 & OXIDIZE & TEMP=550oC TIME=0.0835min TRTE=3000oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
108 & & PRES=0.5bar \\
\hline
109 & OXIDIZE & TEMP=800.5oC TIME=0.334min MODE=``Dry oxidation'' PRES=0.5bar \\
\hline
110 & OXIDIZE & TEMP=800.5oC TIME=0.1min TRTE=3000oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
111 & & PRES=0.5bar \\
\hline
112 & OXIDIZE & TEMP=1100.5oC TIME=1min MODE=``Dry oxidation'' PRES=0.5bar \\
\hline
113 & OXIDIZE & TEMP=1100.5oC TIME=0.16min TRTE=-2400oC/min \\
\hline
114 & & MODE=``Dry oxidation'' PRES=0.5bar \\
\hline
115 & ETCH & OXTHI=0um \\
\hline
116 & COMMENT & COMMENT=========================================== ===== \\
\hline
117 & COMMENT & COMMENT=``I2 IMPL SINKER (X)'' \\
\hline
118 & IMPLANT & ELEM=Boron ENERGY=70keV DOSE=1e+016cm\^-2 \\
\hline
119 & COMMENT & COMMENT=``DRIVE IN p-Sinker'' \\
\hline
120 & OXIDIZE & TEMP=700oC TIME=10min \\
\hline
121 & OXIDIZE & TEMP=700oC TIME=12.5min TRTE=12oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
122 & & PRES=0.02bar \\
\hline
123 & OXIDIZE & TEMP=850oC TIME=18.75min TRTE=8oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
124 & & PRES=0.02bar \\
\hline
125 & OXIDIZE & TEMP=1000oC TIME=10min TRTE=5oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
126 & & PRES=0.02bar \\
\hline
127 & OXIDIZE & TEMP=1050oC TIME=12.5min TRTE=4oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
128 & & PRES=0.02bar \\
\hline
129 & OXIDIZE & TEMP=1100oC TIME=25min TRTE=2oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
130 & & PRES=0.02bar \\
\hline
131 & OXIDIZE & TEMP=1150oC TIME=50min TRTE=1oC/min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
132 & & PRES=0.02bar \\
\hline
133 & OXIDIZE & TEMP=1200oC TIME=10min \\
\hline
134 & OXIDIZE & TEMP=1200oC TIME=0.2min \\
\hline
135 & OXIDIZE & TEMP=1200oC TIME=65min \\
\hline
136 & OXIDIZE & TEMP=1200oC TIME=50min TRTE=-2oC/min \\
\hline
137 & OXIDIZE & TEMP=1100oC TIME=135min TRTE=-3oC/min \\
\hline
138 & ETCH & OXTHI=0um \\
\hline
139 & COMMENT & COMMENT=Gateoxid \\
\hline
140 & OXIDIZE & TEMP=750oC TIME=10min MODE=``Dry oxidation'' PRES=0.05bar \\
\hline
141 & OXIDIZE & TEMP=750oC TIME=30min TRTE=5oC/min MODE=''Dry oxidation`` \\
\hline
142 & & PRES=0.05bar \\
\hline
143 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=5min MODE=``Dry oxidation'' PRES=0.05bar \\
\hline
144 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=5min MODE=``Dry oxidation`''\\
\hline
145 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=64min MODE=``Dry oxidation'' HCL=1\% \\
\hline
146 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=5min MODE=``Dry oxidation'' \\
\hline
147 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=15min \\
\hline
148 & OXIDIZE & TEMP=900oC TIME=50min TRTE=-3oC/min \\
\hline
149 & PLOT & WHENLAST=TRUE \\
\hline
\begin{tabularx}
\caption{Simulationsfile von ICECREM: Vergleich zwischen STI und LOCOS inklusiv p-Sinker} \label{Simulation}
\end{table}