dresdner
22-01-2008, 10:52
Hallo,
nach dem Durchstöbern des Forums habe ich schon einige Aspekte umsetzen können, allerdings ist das mein Ergebnis nicht zufrieden stellend.
Meine Anforderungen an die Tabelle:
unterschiedliche Spalten sollen eine unterschiedliche Ausrichtung haben
In der Kopfzeile soll es zu einem erzwungenen Zeilenumbruch kommen. Die Einheit einer Größe soll unter dieser stehen.
Die optimale Spaltenbreite soll automatisch bestimmt werden und nicht mittels \p{} oder so was.
Die Gesamtbreite der Tabelle soll sich an der Summe der Breiten der Spalten orientieren und nicht an der Textbreite.
Hier ist meine Beschreibung des Problems, welche aber nicht alle Aspekte abdeckt:
\documentclass[%
11pt,
ngerman, % wird an andere Pakete weitergereicht
a4paper,
BCOR5mm, % Zusaetzlicher Rand auf der Innenseite
DIV12, % Seitengroesse (siehe Koma Skript Dokumentation !)
]{scrreprt}
\usepackage[latin1]{inputenc}
\usepackage{booktabs, tabularx}
\usepackage{array, ragged2e}
\newcolumntype{C}[1]{>{\centering\arraybackslash}p{#1}}
\newcolumntype{R}[1]{>{\raggedright\arraybackslash}p{#1}}
\begin{document}
\begin{table}[H]
\centering
\begin{tabularx}{0.9\textwidth}{R{0.22\textwidth}C {0.15\textwidth}C{0.07\textwidth}C{0.06\textwidth} C{0.07\textwidth}C{0.07\textwidth}C{0.07\textwidth }}
\toprule
Silizium & Unterlage & $\sigma_{Start}$ [MPa] & $T_K$ [°C] & $\Delta\sigma_K$ [MPa] & $\Delta\sigma_R$ [MPa] & $\sigma_{Ende}$ [MPa] \\
\midrule
200 nm a-Si, As & Oxid & 4,29 & 262 & 29,8 & 29,4 & 100 \\
400 nm a-Si, As & Oxid & 4,29 & 262 & 29,8 & 29,4 & 100 \\
200 nm a-Si, P & Oxid & 4,29 & 262 & 29,8 & 29,4 & 100 \\
440 nm a-Si, undot. & Oxid & 4,29 & 262 & 29,8 & 29,4 & 100 \\
800 nm Poly, undot. & Oxid & 4,29 & - & - & - & 100 \\
\midrule
200 nm a-Si, As & Nitrid & 4,29 & 262 & 29,8 & 29,4 & 100 \\
400 nm a-Si, As & Nitrid & 4,29 & 262 & 29,8 & 29,4 & 100 \\
200 nm a-Si, P & Nitrid & 4,29 & 262 & 29,8 & 29,4 & 100 \\
440 nm a-Si, undot. & Nitrid & 4,29 & 262 & 29,8 & 29,4 & 100 \\
800 nm Poly, undot. & Nitrid & 4,29 & - & - & - & 100 \\
\midrule
200 nm a-Si, As & NON & 4,29 & 262 & 29,8 & 29,4 & 100 \\
400 nm a-Si, As & NON & 4,29 & 262 & 29,8 & 29,4 & 100 \\
200 nm a-Si, P & NON & 4,29 & 262 & 29,8 & 29,4 & 100 \\
440 nm a-Si, undot. & NON & 4,29 & 262 & 29,8 & 29,4 & 100 \\
800 nm Poly, undot. & NON & 4,29 & - & - & - & 100 \\
\bottomrule
\end{tabularx}
\caption{\emph{FSM}-Ergebnisse der LPCVD-Siliziumfilme}
\label{fig:fsm_erg_ofen}
\end{table}
\end{document}
Wer kann mir in diesem Fall bitte weiterhelfen?
nach dem Durchstöbern des Forums habe ich schon einige Aspekte umsetzen können, allerdings ist das mein Ergebnis nicht zufrieden stellend.
Meine Anforderungen an die Tabelle:
unterschiedliche Spalten sollen eine unterschiedliche Ausrichtung haben
In der Kopfzeile soll es zu einem erzwungenen Zeilenumbruch kommen. Die Einheit einer Größe soll unter dieser stehen.
Die optimale Spaltenbreite soll automatisch bestimmt werden und nicht mittels \p{} oder so was.
Die Gesamtbreite der Tabelle soll sich an der Summe der Breiten der Spalten orientieren und nicht an der Textbreite.
Hier ist meine Beschreibung des Problems, welche aber nicht alle Aspekte abdeckt:
\documentclass[%
11pt,
ngerman, % wird an andere Pakete weitergereicht
a4paper,
BCOR5mm, % Zusaetzlicher Rand auf der Innenseite
DIV12, % Seitengroesse (siehe Koma Skript Dokumentation !)
]{scrreprt}
\usepackage[latin1]{inputenc}
\usepackage{booktabs, tabularx}
\usepackage{array, ragged2e}
\newcolumntype{C}[1]{>{\centering\arraybackslash}p{#1}}
\newcolumntype{R}[1]{>{\raggedright\arraybackslash}p{#1}}
\begin{document}
\begin{table}[H]
\centering
\begin{tabularx}{0.9\textwidth}{R{0.22\textwidth}C {0.15\textwidth}C{0.07\textwidth}C{0.06\textwidth} C{0.07\textwidth}C{0.07\textwidth}C{0.07\textwidth }}
\toprule
Silizium & Unterlage & $\sigma_{Start}$ [MPa] & $T_K$ [°C] & $\Delta\sigma_K$ [MPa] & $\Delta\sigma_R$ [MPa] & $\sigma_{Ende}$ [MPa] \\
\midrule
200 nm a-Si, As & Oxid & 4,29 & 262 & 29,8 & 29,4 & 100 \\
400 nm a-Si, As & Oxid & 4,29 & 262 & 29,8 & 29,4 & 100 \\
200 nm a-Si, P & Oxid & 4,29 & 262 & 29,8 & 29,4 & 100 \\
440 nm a-Si, undot. & Oxid & 4,29 & 262 & 29,8 & 29,4 & 100 \\
800 nm Poly, undot. & Oxid & 4,29 & - & - & - & 100 \\
\midrule
200 nm a-Si, As & Nitrid & 4,29 & 262 & 29,8 & 29,4 & 100 \\
400 nm a-Si, As & Nitrid & 4,29 & 262 & 29,8 & 29,4 & 100 \\
200 nm a-Si, P & Nitrid & 4,29 & 262 & 29,8 & 29,4 & 100 \\
440 nm a-Si, undot. & Nitrid & 4,29 & 262 & 29,8 & 29,4 & 100 \\
800 nm Poly, undot. & Nitrid & 4,29 & - & - & - & 100 \\
\midrule
200 nm a-Si, As & NON & 4,29 & 262 & 29,8 & 29,4 & 100 \\
400 nm a-Si, As & NON & 4,29 & 262 & 29,8 & 29,4 & 100 \\
200 nm a-Si, P & NON & 4,29 & 262 & 29,8 & 29,4 & 100 \\
440 nm a-Si, undot. & NON & 4,29 & 262 & 29,8 & 29,4 & 100 \\
800 nm Poly, undot. & NON & 4,29 & - & - & - & 100 \\
\bottomrule
\end{tabularx}
\caption{\emph{FSM}-Ergebnisse der LPCVD-Siliziumfilme}
\label{fig:fsm_erg_ofen}
\end{table}
\end{document}
Wer kann mir in diesem Fall bitte weiterhelfen?